物理氣相沉積(PVD) 是一（yī）種薄膜製備技術，可在真空條件下將材料源（固體或液體）表麵物理汽化成氣態原子、分子或部分電離成離子。然後，通過低壓（yā）氣體（或等離子（zǐ）體）在基板表麵（miàn）沉積具有特定功能的膜（mó）。物理氣相沉積的（de）主要方法（fǎ）有真空蒸鍍（dù）、濺射沉積、電弧（hú）等離子鍍、離子鍍等（děng）。PVD薄膜沉積速度快、附著力強（qiáng）、衍射性能好、應用範圍廣。

DLC主要采用PVD或PACVD工藝，在100℃~300℃的溫度下合成，具有良好的耐磨性、潤滑性，且具有電氣絕緣、化學穩定性和光透性。鍍膜可覆（fù）蓋鐵或非鐵金屬及塑料、陶瓷。主要碳素塗層根據氫含量和原子間的結合構造分為DLC(a-C:H)、ta-C和Diamond塗（tú）層。

那麽PVD塗層與DLC塗層有哪些區別呢？今天草莓视频APP官网下载（lóng）小編就從三個維度為（wéi）大家分析（xī）。

1. 不（bú）同（tóng）塗層材料：PVD（Physical Vapor Deposition，物理（lǐ）氣相沉（chén）積）塗層通常使（shǐ）用金屬材料以及一些金屬化合（hé）物（wù）作為塗層材料，較常見的有氮化物、氧（yǎng）化物、碳化物等材（cái）料。而（ér）DLC（Diamond-Like Carbon，類金鑽碳）塗層則是由一層類似於天然金剛石結構的碳膜組成。

2. 塗層硬度不同：PVD塗層硬度大多（duō）在1000-4000HV之間，DLC塗層硬度一（yī）般為2000HV-9000HV以上，具有更好的耐磨性、抗腐蝕性和潤滑性。

3.膜層的特性有（yǒu）所不（bú）同（tóng），PVD鍍膜後的膜層，具（jù）有耐磨損，耐腐蝕，顏色亮麗多樣，導電（diàn）、絕緣等特性，DCL(膜層（céng）和PVD鍍膜相比（bǐ），DLC膜層的硬度更高，摩擦係數更低，更耐腐蝕，環保且抗粘附性（xìng）更好。

4.用途有（yǒu）所（suǒ）不同，PVD鍍膜廣泛應用於數碼產（chǎn）品、飾品（pǐn）、手表、智能穿（chuān）戴產品、醫療器械（xiè）、半導體、消費類（lèi）電子產品（pǐn）等領域，而DLC廣泛（fàn）應用於機械功能領域，比如鑽頭、銑刀、模具及其輔助模具、剪刀、軸承（chéng）、等領域（yù）。

5.塗層製備方法不同,PVD鍍: PVD鍍的方（fāng）法有，真空蒸（zhēng）鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等,DLC: DLC的（de）方法有真空蒸發、濺射、等離（lí）子體輔助化學氣相沉積、離子注入等。