一、真空鍍膜工藝的定義與核心原理

定義：真空鍍膜是在真空環境下，通過物理或化學方法將材料沉積在基片表麵形（xíng）成薄膜的技術。其核心優勢在於薄膜（mó）均勻性、致密性和（hé）附著力遠高於傳統鍍膜（mó）方（fāng）法。

核心原理：
在真空環境中（zhōng）（通常氣壓（yā）低於 10⁻³ Pa），材料（liào）原子 / 分子（zǐ）的平均（jun1）自由程增大，可避免與氣體分子碰撞導致的（de）散射，從而精準沉積到基片表麵。根據沉積機製，主要分為兩大類：

物理氣相沉積：通過物理手段（duàn）（如加熱、濺射）使材料氣（qì）化（huà），再冷凝沉積。

化學氣（qì）相沉積：通過氣態反應物在基片表麵發生化學反應，生成固態產物沉積。

二、真（zhēn）空鍍膜（mó）的典型應（yīng）用領域

光學領域

增透（tòu）膜（減少鏡片反光）、高反（fǎn）膜（激光腔鏡）、濾光膜（相機濾鏡）。

例：相機（jī）鏡頭表麵的多層鍍膜可提高透光率，減少眩光。

電子與（yǔ）半導體

芯片電極（濺射沉（chén）積鋁 / 銅膜）、絕緣層（PECVD 沉積 SiO₂）、太陽能電池電極（蒸鍍銀漿）。

例：矽片上沉積納（nà）米級的柵極氧化層（厚度僅幾（jǐ）納米）。

機械與功能塗層

刀具塗層（TiN、TiAlN，提高硬度和耐磨性）、汽車發動機耐磨塗層。

例：數控（kòng）刀具表麵的金（jīn）色 TiN 塗層可使壽命延長 3-5 倍。

裝飾與環保

手表、首飾的仿金（jīn）鍍層（濺射沉積氮化鈦）、建築玻璃的低輻射（Low-E）膜。

例（lì）：建築玻璃鍍上（shàng）多層金屬氧化物膜，可反（fǎn）射（shè）紅外光，降低空調能耗。

新能源領域

鋰離子電池電極薄膜（磁（cí）控（kòng）濺射沉積鋰鈷氧化物）、氫燃料電池催化層。

三（sān）、真空鍍膜工藝的優勢與流程

優勢

環保性：無需溶劑（jì），減少化學汙染（對比電鍍工藝）。

高精度（dù）：膜（mó）厚可控製在納米級（如 10nm 以下），適合（hé）微電子器件。

材料兼（jiān）容性廣：可在（zài）金屬、陶瓷、塑料、玻璃等基片（piàn）上鍍膜。

基本流程

基（jī）片預處（chù）理：清洗（去除油（yóu）汙、氧化物）、拋光，確保表麵潔淨。

真空鍍膜：根據工藝類型（xíng），將材（cái）料氣化或通過化學反應沉積（jī）。

後處理（lǐ）：退火（改善膜層應力）、檢（jiǎn）測（膜厚、附著力（lì）、成分分析（xī））。