DLC塗層就是類金（jīn）剛（gāng）石塗層，具有（yǒu）高硬度、耐磨損、低摩（mó）擦係數、良好（hǎo）的化學穩（wěn）定性及高透光率等優異（yì）性（xìng）能，得到廣泛應用。DLC塗（tú）層按（àn）照成分可以分為含氫DLC塗（tú）層（céng）和無氫DLC塗層，含（hán）氫DLC塗層主（zhǔ）要采用化學氣相沉積（CVD）方法沉積，含（hán）有大量飽和sp3鍵的氫元素，使用過程（chéng）中經常由於氫逸出導致性能（néng）退化。而無氫DLC塗層中sp3鍵（jiàn）全部由碳原子組成，結構上更加穩（wěn）定可靠，使用效果更好。那麽（me），常用無氫DLC塗層製備方法有哪（nǎ）些呢（ne）？如果想獲得較厚的膜層，該使用怎樣的方法製備呢？下（xià）麵，草莓视频APP官网下载小（xiǎo）編為大家解析一下上述問題吧。

一、常（cháng）用的無氫DLC塗層沉積製（zhì）備方法分類 

1、電弧（hú）離子鍍

　電弧離子鍍（dù）是1964年首（shǒu）先公開了所發明的技術。它（tā）是在蒸發鍍膜的同時（shí），用來（lái）源於等離子體的（de）離子轟擊膜（mó）層。在上世紀70年代諸多電弧離子鍍技術相繼實用化，主要（yào）用於製備刀具塗層。
　　電弧離子鍍（dù）技術屬於冷場致弧光放電，製備過程如下：
　　工件經清洗入爐後抽真空（kōng）。當真空度達到6X10 -3 Pa後，開啟烘烤（kǎo）加熱電源，對工件進行加熱。達到一定溫度後（hòu），通入氨氣（qì），真空度降至（zhì）（3～5）×10-1Pa。接通工件偏壓電源，電壓調至100~200V。此時產生輝光放電，從陰極弧源表麵發（fā）射出碳原子和石墨原子。在工件負偏壓的作用下（xià），沉積到工件形（xíng）成DLC底層，以提高類金剛石塗層的附著力。

2、離子輔助沉積

　　離（lí）子輔助沉積技（jì）術英文縮寫IAD，是一種真空蒸發為基礎（chǔ）的輔助沉積（jī）方法。是（shì）借助少量高（gāo）能離子及大量高能中子的連續作用，將金（jīn）屬或金屬化合物（wù）蒸氣沉積在工件的一種表麵（miàn）處理過程。
　　真空蒸發鍍膜過程中沉積的原子或者分子在基體表麵的有限遷移率（lǜ）形成柱狀（zhuàng）的薄膜結構，所以在沉積的過程（chéng）中對生長的薄膜利用離子源轟（hōng）擊，將離子（zǐ）的動量傳給沉（chén）積的原子或分子，使（shǐ）沉積的分子或者原子（zǐ）的遷（qiān）移率（lǜ）得到提高（gāo），從而抑製了柱狀結構的生長（zhǎng），使得光學介質薄（báo）膜的密度增加，光學（xué）性能進一步提高。

3、濺射沉積

　　濺射沉積是用高（gāo）能粒子轟（hōng）擊靶材表麵，通過粒子動（dòng）量傳（chuán）遞打出靶材中的原子（zǐ）及其他粒子，使靶材中的原（yuán）子（zǐ）濺（jiàn）射出來，沉積在基底表麵形成薄膜的方法。
　　濺（jiàn）射沉積（jī）技術（shù）具（jù）有（yǒu）可實現（xiàn）大麵積快速沉（chén）積，無氫DLC薄膜與基體結合力好，濺射密度高、針孔少（shǎo），膜層可控性和重複（fù）性好等優點，且任何物質（zhì）都可（kě）以進（jìn）行（háng）濺射，因而近年來發展迅速，應（yīng）用廣泛。

二、含氫DLC塗（tú）層製備辦法還有一種叫物理氣相堆積(PVD)。

物理氣相堆積製備DLC薄（báo）膜，通過高（gāo）溫蒸騰（téng），氣體離子濺射石墨靶（bǎ）材（cái），使碳以離子或原子的方式堆積於基體上成膜，這種薄膜外表粗糙，結合力差，工業應用效果不（bú）明顯。離子束堆積(IBD)、磁（cí）控濺射（shè）、陰極電弧技能和脈衝激光堆積(PLD)等，均能夠製備外表（biǎo）細密潤滑、內應力小、附著力（lì）強、摩擦係數較小的（de）類金剛石塗層。

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