類金剛石膜是以石墨（mò）或（huò）碳氫化合（hé）物等為原料（liào），在低（dī）溫低壓下人工合成的一種含（hán）有SP3和SP2鍵的非晶（jīng）碳膜。由於其具有一係列與金剛石相（xiàng）接近的優良性能和結構特征，國內外科技工（gōng）作者對DLC膜的製備工藝（yì）、結構形態（tài）、物理測定、應用開拓和專業化生產等方麵進行了廣泛的研究,采用陽極型氣體（tǐ）離子源結合非（fēi）平衡磁控濺射複合技術的方法，製備（bèi）Cr過渡層的DLC/wcc薄膜，並對其膜層性能、界麵、結構及成分分布等進行了分析，以期為製備優質的DLC膜積累有用的（de）特性（xìng）數據。

       采用陽極層流型矩形氣（qì）體離子源，並結合非平衡磁控濺射進行摻鎢類金剛石薄膜沉積。主要沉積DLC薄膜:當在磁控靶（bǎ）前麵時，主（zhǔ）要沉積wcc薄膜，最終實現DLC/WCC多層膜（mó）的製備。

       DLC/wcc薄膜(約2200nm)。膜層總厚度約2.7um;顯微硬度HV0.025,15為3550，明顯高於摻鈦類金剛（gāng）石（shí）膜的硬度(HV0.025,15為2577);摩（mó）擦因數為（wéi）0.139(與鋼對磨)。

        所沉積（jī）的膜層（céng）與較軟的Ti6AI4V基體結合良好，劃痕邊緣沒有明顯的崩膜，到52N後才露出基體，也就是膜（mó）基結合力達到了52N，達到工業應用離子鍍TiN薄膜的膜/基結（jié）合水平。

1、膜（mó）層厚度2.7μm，硬度為3550HV，與（yǔ）鋼對磨（mó）時摩擦因數為0.139，在Ti6AI4V鈦合金上膜/基結合力達（dá）52N。

2、WCC/DLC多層膜，調製周（zhōu）期為（wéi）4nm。

3、DLC/wcc薄膜仍呈現出類金剛石膜的主要特征